真空蒸發(fā)鍍膜是用空心陰極電子槍利用低電壓，大電流的空心陰極放電產(chǎn)生的等離子電子束作為加熱源?？招年帢O電子槍用空心的鉭管作為陰極，坩鍋?zhàn)鳛殛?yáng)極，鉭 管附近裝有輔助陽(yáng)極。利用空心陰極電子槍蒸鍍時(shí)，產(chǎn)生的蒸發(fā)離子能量高，離化率也高，因此，成膜質(zhì)量好。空心陰極電子槍對(duì)真空室的真空度要求比e型電子槍 低，而且是使用低電壓工作，相對(duì)來(lái)說(shuō)，設(shè)備較簡(jiǎn)單和安全，造價(jià)也低。目前，在我國(guó)e型電子槍和空心陰極電子槍都已成功地應(yīng)用于蒸鍍及離子鍍的設(shè)備中。槍的 功率可達(dá)10幾萬(wàn)千瓦，已經(jīng)為機(jī)械，電子等工業(yè)鍍出了各種薄膜。

電子束蒸發(fā)源的有點(diǎn)為：

1）電子束轟擊熱源的束流密度高，能獲得遠(yuǎn)比電阻加熱源更大的能量密度。可以將高達(dá)3000度以上的材料蒸發(fā)，并且能有較高的蒸發(fā)速度；

2）由于被蒸發(fā)的材料是置于水冷坩鍋內(nèi)，因而可避免容器材料的蒸發(fā)，以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應(yīng)，這對(duì)提高鍍膜的純度極為重要；

3）熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱效率高，熱傳導(dǎo)和熱輻射的損失少。

1.3 高頻感應(yīng)蒸發(fā)源蒸鍍法

高頻感應(yīng)蒸發(fā)源是將裝有蒸發(fā)材料的石墨或陶瓷坩鍋放在水冷的高頻螺旋線圈中央，使蒸發(fā)材料在高頻帶內(nèi)磁場(chǎng)的感應(yīng)下產(chǎn)生強(qiáng)大的渦流損失和磁滯損失（對(duì)鐵磁 體），致使蒸發(fā)材料升溫，直至氣化蒸發(fā)。膜材的體積越小，感應(yīng)的頻率就越高。在鋼帶上連續(xù)真空鍍鋁的大型設(shè)備中，高頻感應(yīng)加熱蒸鍍工藝已經(jīng)取得令人滿意的 結(jié)果。